Inspección de máscara
En microtecnología, inspección de máscara o inspección de fotomáscara es una operación de comprobación de la exactitud de los fabricados patrones, usado, por ejemplo, para fabricación de dispositivos semiconductores.[1]
Las tecnologías modernas para la localización de defectos en patrones son sistemas automatizados que involucran Microscopía electrónica de barrido y otras herramientas avanzadas.[2]
Máscara datos inspección
El término "inspección de la máscara" puede referirse también informalmente inspección de datos de máscara paso realizado antes de la escritura real la máscara real.[3] Otros métodos de inspección uso especialmente construido microscopio ligero sistemas tales como contáctese con sondeo Solutions Inc. Éstos dependen de luz blanca, típicamente optimizado en aproximadamente 538 nM y uso incidente brillante y oscuro campo así como transmisión luminosa y defectos de iluminación de campo oscuro para ver los agujeros de perno, borde defectos y muchas formas de contaminación y el substrato.
Referencias
- ^ "La tecnología VLSI: fundamentos y aplicaciones", por Yasuo Tarui, 1986, ISBN 3-540-12558-2, Capítulo 4: "Tecnología de inspección de la máscara"
- ^ Página Web de ZEISS ofreciendo máscara reparación herramientas automatizadas
- ^ "Diseño para la fabricación y producción de nano-escala CMOS", de Charles Chiang, Jamil Kawa, 2007, ISBN 1-4020-5187-5, p. 237
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